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Water Quality Grades

Wasserqualitäten im Vergleich
RO / DI / UPW

„Reines Wasser“ ist keine einzelne Qualität, sondern ein ganzes Spektrum. Was verschiedene Prozesse benötigen, kann sich um das Tausendfache unterscheiden, und die Aufbereitungskosten steigen steil mit. Nachfolgend die Spezifikationen, die Unterschiede und die Auswahlkriterien der drei gängigen Qualitäten.

Drei Qualitäten

Von der Umkehrosmose bis zur theoretischen Grenze

Jede Stufe nach oben bedeutet einen weiteren Verfahrensschritt. Je weniger Verunreinigungen im Wasser verbleiben, desto schwerer lassen sich die verbliebenen entfernen.

01

RO

Umkehrosmosewasser

Auf das Rohwasser wird Druck ausgeübt, um es durch eine Membran mit sehr feinen Poren zu pressen und so den größten Teil gelöster Salze, organischer Stoffe und Mikroorganismen zurückzuhalten. Es ist der gemeinsame Ausgangspunkt jeder höheren Qualität.

  • Spezifischer Widerstandca. 0.05M~1.0MΩ·cm
  • Leitfähigkeit≤ 20 μS/cm
  • VerfahrenRO Membran
KesselspeisewasserAllgemeine ProzesseMedizin
02

DI

Deionisiertes Wasser

Nach der RO-Stufe entfernen Ionenaustauscherharz oder ein CEDI-Modul die verbleibenden Kationen und Anionen so weit wie möglich. Der spezifische Widerstand nähert sich dem theoretischen Wert, organische Stoffe, Partikel und Ultraspurenmetalle sind jedoch noch nicht streng kontrolliert.

  • Spezifischer Widerstand1.0M~18.2MΩ·cm
  • Leitfähigkeit1.0~0.055 μS/cm
  • VerfahrenRO + IX / CEDI
LaborLeiterplattenGalvanikPharmazie
03

UPW

Reinstwasser

Aufbauend auf DI werden organischer Kohlenstoff, Ultraspurenmetalle, Bor und Nanopartikel kontrolliert. Der spezifische Widerstand erreicht die theoretische Grenze von 18,2 MΩ·cm bei 25 °C.

  • Spezifischer Widerstand18.2 MΩ·cm (25°C)
  • Leitfähigkeit0.055 μS/cm (25°C)
  • VerfahrenRO + CEDI/MDI + UV
    + MBP + UF
HalbleiterWaferfertigungLCDOptoelektronik

Vollständiger Vergleich

Fünfzehn Parameter im direkten Vergleich

Bei einem einzelnen Parameter können die drei Qualitäten um sechs Größenordnungen auseinanderliegen. Scrollen Sie die Tabelle seitwärts, um alle Spalten zu sehen.

Qualität RO Wasser DI Wasser UPW Reinst
Verfahren RO Membran RO + Ionenaustauscherharz (oder CEDI) RO + CEDI/MDI + UV + MBP + Final UF
Spezifischer Widerstand ca. 0.05M~1.0MΩ·cm 1.0M~18.2MΩ·cm 18.2 MΩ·cm (25°C)
Leitfähigkeit ≤ 20 μS/cm 1.0~0.055 μS/cm 0.055 μS/cm (25°C)
TDS < 5–20 ppm < 1 ppm Nahezu null
TOC 100~1000 ppb 20~100 ppb < 2 ppb
SiO₂ < 2500 ppb < 50 ppb < 2 ppb
Boron < 500 ppb < 10 ppb < 1 ppb
< 100 ppt bei einigen Prozessen, < 5 ppt bei fortgeschrittenen Strukturgrößen
Particle Keine besondere Anforderung Üblicherweise < 1 μm < 2 Partikel/mL bei ≥ 50 nm
Bis 20 nm bei fortgeschrittenen Prozessen
Keimzahl 10²–10⁴ CFU/mL < 100 CFU/mL < 1 CFU/L
Endotoxin Nicht spezifiziert Eigene Grenzwerte in Biotech-Prozessen Äußerst niedrig
Gelöster O₂ Nahe Sättigung Nahe Sättigung Bis unter 10 ppb
Metallionen ca. 95–99 % Entfernung ppb Niveau ppt Niveau
Auf Anfrage bis unter 1 ppt
Kosten ★★ ★★★★★
Wartung Niedrig Mittel Hoch
Anwendungen Kesselspeisewasser, allgemeine Prozesse, Medizin Labor, Leiterplatten, Galvanik, Pharmazie Halbleiter, Waferfertigung, LCD, Optoelektronik

Typische Bandbreiten – die tatsächliche Spezifikation wird auf Rohwasser und Prozessbedarf ausgelegt

Was die Zahlen bedeuten

Das Prozessrisiko hinter jeder Wasserqualitätskennzahl

  • Spezifischer WiderstandMΩ·cm

    Je weniger Ionen im Wasser sind, desto schlechter leitet es und desto höher ist sein spezifischer Widerstand. Damit ist er das direkteste Gesamtmaß für die Wasserreinheit. Für Reinstwasser liegt die theoretische Grenze bei 25 °C bei 18,2 MΩ·cm.

    Hinweis: Der spezifische Widerstand erfasst weder organische Stoffe noch Partikel oder schwach ionisierte Spezies
  • LeitfähigkeitμS/cm

    Der Kehrwert des spezifischen Widerstands – zwei Schreibweisen derselben Messgröße. 18,2 MΩ·cm entsprechen 0,055 μS/cm. Industriewasser wird üblicherweise in Leitfähigkeit angegeben, hochreines Wasser im spezifischen Widerstand.

  • TOCGesamter organischer Kohlenstoff

    Die Gesamtlast organischer Verunreinigung. Organische Stoffe sind schwach polar, sehr klein und kaum ionisiert.

    → So funktioniert die 185-nm-Photolyse
  • SiO₂Kieselsäure

    Kieselsäure liegt überwiegend in schwach ionisierter Form vor und schlägt sich im spezifischen Widerstand kaum nieder – bildet aber auf Wafern und Kesselflächen nur schwer entfernbare Ablagerungen.

  • Boron

    Bor dissoziiert in neutralem Wasser kaum und gehört damit zu den am schwersten zu entfernenden Elementen; gewöhnliche RO und Harze entfernen es nur schwer. Zugleich ist es ein Halbleiter-Dotierstoff, sodass schon Spuren das Bauteilverhalten verändern – daher die ppt-Anforderung bei fortgeschrittenen Strukturgrößen.

  • Particle

    Bei fortgeschrittenen Strukturgrößen wirken sich Nanopartikel in jeder Hinsicht stark aus; je nach Prozessanforderung gelten unterschiedliche Partikelgrenzwerte.

    → Entfernung von Nanopartikeln
  • KeimzahlCFU

    In reinem Wasser gibt es kaum Nährstoffe, dennoch können Bakterien die Rohrwände als Biofilm besiedeln; Toträume und lange stagnierende Abschnitte sind die Risikobereiche. Die Kontrolle gelingt über Rohrleitungsdesign und Sanitisierbarkeit, nicht allein über Filtration.

  • EndotoxinBiotech

    Bruchstücke der bakteriellen Zellwand, die nach dem Absterben zurückbleiben. Sie sind hitzestabil, eine Sterilisation entfernt sie also nicht. Für Injektabilia und Biotech-Prozesse ist Endotoxin ein eigener Kontrollpunkt, getrennt von der Keimzahl.

  • Gelöster O₂DO

    Wasser nimmt Sauerstoff auf, sobald es mit Luft in Kontakt kommt – bei Umgebungsbedingungen rund 8,5 ppm. Im Wasser verbliebener Sauerstoff oxidiert das Metall im Mikroschaltkreis und verursacht Defekte; in Kraftwerken korrodiert er die Turbinenschaufeln.

    → Warum gelöste Gase entfernt werden müssen
  • Metallionenppt

    Ultraspurenmetalle verändern das elektrische Verhalten des Bauteils; Halbleiterprozesse müssen sie daher auf ppt-Niveau vorgeben. Das gelingt nicht nur über Verfahrensaufbau und Harzauswahl, sondern hängt ebenso davon ab, wie viel der Werkstoff selbst auslaugt.

    → Rohrleitung & Werkstoffe

Wie Sie auswählen

Die richtige Qualität schlägt
die höchste Qualität

Die Kosten steigen nicht linear mit der Reinheit. Von RO zu DI ist es etwa eine Größenordnung an Investition, von DI zu Reinstwasser noch einmal eine – und eine Reinstwasseranlage kostet fortlaufend in Wartung, Verbrauchsmaterial und Überwachung.

Überbehandlung verschwendet Kapital und Energie; eine zu niedrige Spezifikation schlägt unmittelbar auf die Ausbeute durch. Der richtige Weg führt rückwärts von dem, was der Prozess tatsächlich toleriert – nicht von der Entscheidung, welche Anlage gekauft wird.

Kessel- und KühlwasserergänzungRO
Allgemeine Reinigung, MedizinRO
Labor, Leiterplatten, GalvanikDI
Pharmazie (PIC/S)DI +sanitisierbar
LCD, OptoelektronikUPW
Halbleiter-WaferprozessUPW + ppt

Typische Zuordnung – bitte gegen Ihre eigene Prozessspezifikation prüfen

Unsicher, welche Qualität Sie benötigen?

Nennen Sie uns Rohwasser und Prozess

Wir antworten mit der Qualität und der Verfahrenskette, die Ihre Bedingungen tatsächlich erfordern – keine pauschale Empfehlung der höchsten Spezifikation.