水質グレード比較
RO / DI / UPW

水中のイオンが少ないほど電気を通しにくくなり、比抵抗は高くなります。そのため比抵抗は水の純度を示す最も直接的な総合指標です。超純水の 25 °C における理論限界は 18.2 MΩ·cm です。

比抵抗の逆数であり、同じ測定量の異なる表現です。18.2 MΩ·cm は 0.055 μS/cm に相当します。一般産業用水では導電率、高純度水では比抵抗で表すのが通例です。

水中の有機汚染物質の総量です。有機物は極性が弱く、分子が微小でイオン化しにくい性質があります。

シリカは主に弱電離の形で存在するため比抵抗にはほとんど現れませんが、ウェーハやボイラー内壁に除去困難な析出物を形成します。

ホウ素は中性の水中でほとんど電離しないため、最も除去が難しい元素のひとつであり、通常の RO や樹脂では除去が困難です。同時に半導体のドーパント元素でもあるため、微量の残留でも素子特性を変化させます。先端プロセスで ppt レベルが要求される理由です。

先端プロセスでは、ナノ粒子があらゆる面で大きな影響を及ぼし、プロセスの要求に応じて許容される粒子の範囲も異なります。

純水中の栄養分はごくわずかですが、細菌が管壁に付着してバイオフィルムを形成する可能性はあります。デッドレグや長期滞留部が高リスク箇所です。制御はろ過だけに頼るのではなく、配管設計と消毒能力によって実現します。

細菌が死滅した後に残る細胞壁の断片です。耐熱性があるため、殺菌しても除去されません。注射剤やバイオプロセスでは、生菌数とは別個の管理項目となります。

水は空気に触れた瞬間から酸素を溶解し、常温常圧では約 8.5 ppm の酸素を含みます。水中に残留した酸素は微細回路の金属を酸化させ、欠陥の原因となります。発電所ではタービン翼が溶存酸素で腐食します。

超微量金属は素子の電気的特性を変化させるため、半導体プロセスでは ppt レベルの管理が求められます。これを実現するには、プロセス構成や樹脂選定に加えて、材質そのものからの溶出量も重要になります。