
Einer der drei größten Halbleiter-Anlagenbauer weltweit
Die Anlagen werden vor der Auslieferung mit Reinstwasser gereinigt und müssen die UPW-Spezifikation vollständig einhalten. Ionenkonzentration und Partikelzahl sind streng geregelt – eine der anspruchsvollsten Anwendungen überhaupt.
- Spezifischer Widerstand
- ≥ 18.2 MΩ·cm
- Particle
- < 0.05 μm (50 nm)
- Schwermetalle
- < 10 ppt
- Anwendung
- Wafer-Reinigung
- 2Pass-RO + CEDI + RDICEDI in Kombination mit einem Mischbett-Polisher in Halbleiterqualität (RDI) erfüllt sowohl den Grenzwert für den spezifischen Widerstand als auch die Spurenverunreinigungs-Anforderung.
- Hochreine PVDF / PFA-RohrleitungenDurchgängig Rohrleitungen in Halbleiterqualität, nahtlos heizwendelgeschweißt, um Sekundärkontamination auszuschließen.
- Strenge Qualitätsprüfung bestandenAlle Prüfungen auf Spurenschwermetalle und Partikel bestanden; die Anlage wurde planmäßig übergeben.








