YESON 也順企業有限公司 Ultrapure Water Systems
EN 日 中 DE

首頁 / 實績案例

實績案例

半導體、生技製藥、醫療器材、光電、公共給水與製造業——每一套系統都通過客戶的實地驗收，並在產線上長期連續運轉。

CEDI / MDI modules on a 5 CMH ultrapure water (UPW) skid
Semiconductor · UPW

全球前三大半導體設備商

設備出廠前需以超純水完成清洗，並須完整符合 UPW 規範。本案嚴格管控離子濃度與顆粒數，是對系統穩定度要求最高的一類應用。

水質指標
≥ 18.2 MΩ·cm
Particle
< 0.05 μm (50 nm)
重金屬
< 10 ppt
應用環節
晶圓清洗
  • 2Pass-RO + CEDI + RDI 三重系統採用 CEDI 搭配半導體級精混床 (RDI)，達標極限電阻率與超微量雜質要求。
  • 高潔淨 PVDF / PFA 管材全系統採半導體等級高純度管路，配備無縫熱融銲接，避免二次污染。
  • 嚴格品質驗證通過順利通過各項超微量重金屬與 Particle 檢測，順利交付驗收。
Ionpure CEDI stacks in a semiconductor ultrapure water system
Semiconductor · Trace Boron

比利時商台灣分公司

先進晶圓清洗與高階半導體製程用水，除了電阻率之外，還必須把硼與重金屬壓到 ppt 等級——這是一般 DI 系統無法達成的規格。

水質指標
≥ 18.2 MΩ·cm
Boron
< 20 ppt
重金屬
< 5 ppt
供水
24 h 連續
  • 2Pass-RO + VNX + RDI 設計結合半導體級樹脂與管路設計，達成重金屬離子低於 5 ppt 的超純水。
  • 微量硼控制硼是最難去除的元素之一，本案以製程配置與樹脂選型將其控制在 20 ppt 以下。
  • 24 小時不間斷供水系統具備連續產水與備援能力，滿足產線全天候用水。
Pharmaceutical purified water plant room with storage tank, TOC-UV skid and CEDI module
Pharmaceutical · EU PIC/S

生技製藥廠 — 符合 EU PIC/S 規範

應用於藥品配劑、針劑生產與無菌清洗水。系統必須全段可消毒，並符合歐盟 EU PIC/S 藥廠認證要求。

產水能力
1 m³/h (1 CMH)
電阻率
> 18 MΩ·cm
TOC
< 20 ppb
細菌數
< 100 pcs/mL
  • 全系統 85°C 熱水消毒活性碳、HSRO 及耐 85°C 專用 CEDI 模組皆具備高溫滅菌功能，細菌數實測可維持 3–6 個月為 0 pcs/mL。
  • 衛生級 SUS316L 管路工程全線採 SUS316L 衛生級管材與 BPE 標準規範，以自動軌道銲接確保管內無死角。
  • 完整 DQ / IQ / OQ 驗證文件提供符合PIC/S 規範的完整建置與驗證文件支援。
BPE sanitary stainless piping for pharmaceutical ultrapure water
Pharmaceutical · Sanitary UPW

世界級原料藥廠 — 衛生級超純水

客戶為世界著名的原料藥生產廠，擁有 ISO、HACCP 等多項認證。因擴建新廠，需要一套符合 PIC/S 規範的衛生級超純水系統——全段可進行熱消毒，並同時符合水質與生菌數規範。

法規標準
PIC/S
進水水源
自來水
管路規範
BPE
消毒方式
全段熱消毒
  • 由自來水起的完整系統也順提供從自來水進水到終端供水的完整純水系統，全案依 PIC/S 規範建置。
  • BPE 規範供水管路配置供水管路依 BPE 規範配置，管內無死角，可完整清洗與消毒。
  • 不鏽鋼自動銲接並通過第三方檢驗採用不鏽鋼自動銲接技術，銲道經第三方檢驗合格。
軟水系統兩段式 R.O.CEDI自動溫控
RO and CEDI ultrapure water skid supplying a contact lens production line
Medical Devices

亞洲前五大隱形眼鏡製造廠

應用於隱形眼鏡生產製程，須同時供應純水與超純水兩種水質，並符合製藥等級的認證要求。生菌數是本案最關鍵的管控項目。

純水產量
3 m³/h
超純水產量
3 m³/h
水質標準
≥ 18.0 MΩ·cm
系統回收率
95–97%
  • RO + CEDI 搭配 RDI 與終端超濾以 RO + CEDI 產出純水，後段再以 RDI 精混床與 Final UF 提升至超純水等級。
  • 生菌數長期穩定規範要求低於 100 pcs/mL，實測維持在 0–5 CFU/mL，並可穩定保持 2–3 個月。
  • 系統回收率達 95–97%全系統水回收率達 95–97%，大幅降低排水量與用水成本。
ROCEDIRDIFinal UF
Reverse osmosis skid supplying an LED manufacturing plant
LED · Optoelectronics

全球前五大 LED 光電大廠

應用於水刀精密切割與超純水前處理系統。廠址位於自來水管網末端，源水水質波動大、導電率偏高，是本案最主要的挑戰。

產水能力
18 m³/h (18 CMH)
導電度
< 10 μS/cm
水源
自來水末端
應用
水刀切割
  • 前處理雙重防護配置活性碳與軟化樹脂，有效去除懸浮物、有機物與硬度離子，保護 RO 膜。
  • 抗污染耐高負荷 RO 膜採用專用抗污染反滲透膜元件，顯著降低膜堵塞風險與清洗頻率。
  • 高穩定度產水保證成功克服區域性自來水質劇烈波動，提供產線 24 小時高品質穩定用水。
Reverse osmosis skid at the Taiwan Water Corporation advanced treatment training park
Public Utility · Advanced Treatment

台灣自來水公司 — 員工訓練園區

台灣自來水公司為提升員工水處理專業能力，於台南新營建立員工訓練園區，涵蓋傳統淨水處理設備、高級淨水處理設備，以及配管與測漏的訓練實習場。這是台灣首座國際化的自來水處理園區；除為台水培育專業人才外，也配合國家新南向政策，協助東南亞與友邦國家訓練自來水從業人員，促進國民外交。

產水量
276 CMD
系統回收率
70%
進水濁度
≦ 1.0 NTU
進水 SDI
≦ 3
  • 九項高級淨水處理系統整合交付負壓超濾、正壓超濾、RO 逆滲透、生物濾池、加壓浮除、臭氧接觸槽、結晶軟化、生物活性碳、廢水中和，共九項系統由也順統籌建置。
  • 完整且連續的處理流程提供完整且連續性的高級淨水處理系統，可直接作為實地教學與操作訓練使用。
  • 人員訓練與技術移轉除設備建置外，也順同時提供人員訓練及水處理工藝技能分享。
螺捲式 Spiral WoundPA TFC 複合膜8040 × 16 支FRP 外殼
Large-scale softening vessels producing 240 m³/h of soft water
Manufacturing · Textile Dyeing

紡織染整廠 — 大水量軟水系統

染整製程用水，須供應每小時 240 噸軟水，硬度（CaCO₃）低於 5 ppm。本案原水為地下水，必須先過濾、軟化後才能供應製程；由於產水量大，能耗控制的要求也相對嚴格。

產水量
240 m³/h
硬度 (CaCO₃)
< 5 ppm
原水
地下水
運轉方式
全自動
  • 全自動運轉，無須現場人員管理系統為全自動設計，連再生用鹽都無須人工添加，大幅降低客戶的人力與管理成本。
  • 大水量下的能耗控制針對高產水量最佳化運轉策略，在維持水質的前提下降低單位產水能耗。
  • 地下水前處理以複床式砂濾搭配軟水系統處理地下水，穩定將硬度控制在 5 ppm 以下。
MMF 複床式砂濾SF 軟水系統全自動再生
Two-pass RO and CEDI pure water system for automotive electronics
Automotive · EV Supply Chain

車用電子 / 電動車供應鏈

應用於關鍵元件的高溫清洗與生產線連續配水。除了電阻率之外，末端水溫必須持續高於 50°C，且 24 小時不能中斷。

產水能力
3 m³/h (3 CMH)
電阻率
≥ 18 MΩ·cm
末端水溫
> 50 °C
供水
24 h 連續
  • 2Pass-RO + CEDI 免酸鹼架構採用 CEDI 連續電除鹽技術，無須化學酸鹼再生，確保運轉安全並降低操作維護成本。
  • SCR 線上精準加熱控制整合 SCR 線上電加熱器與精密控溫單元，穩定維持末端水溫持續高於 50°C。
  • 24/7 不間斷高可靠運轉系統全自動化控制，具備備援與預警機制，實現全天候連續產水。

您的產線需要什麼水質？

我們從水源與規格開始討論

每一套系統都是從一份水質報告與一組製程規格開始的。歡迎與我們的工程團隊聯繫。

聯絡工程團隊